After-sun hair mask de OWAY – BIO

CHF37.50

Masque réparateur et nourrissant pour les cheveux.

 

150 ml

UGS : HTDO833-1-1-1-3-1-1-1-1-1-1-1-1-1-1 Catégories : , , ,

Description

Conseils d’utilisation

Après lavage des cheveux, appliquer l’après-shampoing naturel et bio After-sun haïr mask OWAY sur les longueurs et laisser poser 1 à 5 minutes. Rincer abondamment.

Pour plus d’information, lis notre billet de blog

Marque

OWAY

Ingrédients

L’extrait des graines de baobab biologique rétablit la barrière lipidique et donne de la souplesse aux cheveux. Le calendula bio dynamique apaise et protège. L’huilde de fruit de la passion renforce l’hydratation.

Détail: Aqua/Water/Eau OZ, Cetearyl Alcohol ND, Myristyl Alcohol ND, Cetrimonium Chloride ND, Calendula Officinalis Flower Extract BD, Adansonia Digitata Seed Oil O, Passiflora Edulis Seed Oil FT, Polymnia Sonchifolia Root Juice ND, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil ND, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil EO, Citrus Limon (Lemon) Peel Oil EO/BD, Foeniculum Vulgare (Fennel) Oil EO/BD, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil EO, C13-15 Alkane ND, Behentrimonium Chloride ND, Bis-(Isostearoyl/Oleoyl Isopropyl) Dimonium Methosulfate ND, Myristyl Lactate ND, Dicaprylyl Ether ND, Lauryl Alcohol ND, Tocopheryl Acetate, Tocopherol ND, Xanthan Gum ND, Isopropyl Alcohol, Glyceryl Laurate ND, Citric Acid ND, Benzyl Alcohol, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Limonene ND, Linalool ND

After-sun hair mask de OWAY - BIO

CHF37.50